ASML：修订间差异

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ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于半导体芯片的制造，特别是极紫外（EUV）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由飞利浦与 ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML 在光刻机市场占据主导地位，客户包括台积电、三星、英特尔等主要芯片制造商。

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	~~ASML（Advanced~~ Semiconductor Materials Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于半导体芯片的制造，特别是极紫外（EUV）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由飞利浦与 ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML ~~在光刻机市场占据主导地位，客户包括台积电、三星、英特尔等主要芯片制造商。~~		[[ASML]]（Advanced Semiconductor Materials Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于[[半导体\|半导体芯片]]的制造，特别是极紫外（[[EUV]]）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由[[飞利浦]]与 ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML 在光刻机市场占据主导地位，客户包括[[台积电]]、[[三星]]、[[英特尔]]等主要芯片制造商。