“EUV”的版本历史

2026年6月27日 (星期六)

• 当前之前 15:192026年6月27日 (六) 15:19 天明 留言 贡献 1,227字节 +1,227 创建页面，内容为“极紫外线（EUV）光刻技术是当前先进半导体制造的核心工艺之一，采用波长为13.5nm的极紫外光进行芯片电路图案的投影曝光。EUV光刻机由荷兰ASML公司主导研发与生产，自2010年代后期开始逐步进入量产，主要应用于7nm、5nm及更先进制程节点。该技术通过反射式光学系统和真空环境工作，克服了深紫外光刻的物理极限，显著提升了芯片的集成度与性能。…”