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<p></p> <table style="background-color: #fff; color: #202122;" data-mw="interface"> <col class="diff-marker" /> <col class="diff-content" /> <col class="diff-marker" /> <col class="diff-content" /> <tr class="diff-title" lang="zh-Hans-CN"> <td colspan="2" style="background-color: #fff; color: #202122; text-align: center;">←上一版本</td> <td colspan="2" style="background-color: #fff; color: #202122; text-align: center;">2026年6月27日 (六) 15:19的版本</td> </tr><tr><td colspan="2" class="diff-lineno" id="mw-diff-left-l1">第1行：</td> <td colspan="2" class="diff-lineno">第1行：</td></tr> <tr><td class="diff-marker" data-marker="−"></td><td style="color: #202122; font-size: 88%; border-style: solid; border-width: 1px 1px 1px 4px; border-radius: 0.33em; border-color: #ffe49c; vertical-align: top; white-space: pre-wrap;"><div><del style="font-weight: bold; text-decoration: none;">ASML（Advanced </del>Semiconductor Materials <del style="font-weight: bold; text-decoration: none;">Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于半导体芯片的制造，特别是极紫外（EUV）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由飞利浦与 </del>ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML <del style="font-weight: bold; text-decoration: none;">在光刻机市场占据主导地位，客户包括台积电、三星、英特尔等主要芯片制造商。</del></div></td><td class="diff-marker" data-marker="+"></td><td style="color: #202122; font-size: 88%; border-style: solid; border-width: 1px 1px 1px 4px; border-radius: 0.33em; border-color: #a3d3ff; vertical-align: top; white-space: pre-wrap;"><div><ins style="font-weight: bold; text-decoration: none;">[[ASML]]（Advanced </ins>Semiconductor Materials <ins style="font-weight: bold; text-decoration: none;">Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于[[半导体|半导体芯片]]的制造，特别是极紫外（[[EUV]]）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由[[飞利浦]]与 </ins>ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML <ins style="font-weight: bold; text-decoration: none;">在光刻机市场占据主导地位，客户包括[[台积电]]、[[三星]]、[[英特尔]]等主要芯片制造商。</ins></div></td></tr> <!-- diff cache key acwiki_mysql:diff:1.41:old-3236:rev-3925:php=table --> </table>

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<p>创建页面，内容为“ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于半导体芯片的制造，特别是极紫外（EUV）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由飞利浦与 ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及…”</p> <p><b>新页面</b></p><div>ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）是一家荷兰公司，专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于半导体芯片的制造，特别是极紫外（EUV）光刻技术。ASML 成立于1984年，最初由飞利浦与 ASM International 合资创立。2000年代，ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台，提升了光刻分辨率。2010年代，公司成功开发 EUV 光刻系统，成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML 在光刻机市场占据主导地位，客户包括台积电、三星、英特尔等主要芯片制造商。</div>

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