打开/关闭搜索
搜索
打开/关闭菜单
978
27
6
4036
Ac-Wiki
导航
首页
最近更改
随机页面
编辑指南
上传文件
联系我们
Discord
Telegram
QQ
打开/关闭外观设置菜单
无法加载偏好设置。请检查您的网络连接并重试。
重试
打开/关闭个人菜单
未登录
未登录用户的IP地址会在进行任意编辑后公开展示。
user-interface-preferences
个人工具
登录
网站测试中,如需帮助或提出建议
请
联系维护员
@天明
查看“︁ASML”︁的源代码
来自Ac-Wiki
查看
阅读
查看源代码
查看历史
associated-pages
页面
讨论
更多操作
←
ASML
因为以下原因,您没有权限编辑该页面:
您请求的操作仅限属于该用户组的用户执行:
用户
您可以查看和复制此页面的源代码。
[[ASML]](Advanced Semiconductor Materials Lithography)是一家荷兰公司,专注于光刻系统的设计与制造。其产品主要用于[[半导体|半导体芯片]]的制造,特别是极紫外([[EUV]])光刻技术。ASML 成立于1984年,最初由[[飞利浦]]与 ASM International 合资创立。2000年代,ASML 推出采用浸没式光刻技术的 Twinscan 平台,提升了光刻分辨率。2010年代,公司成功开发 EUV 光刻系统,成为生产 7 纳米及以下制程芯片的关键设备。ASML 在光刻机市场占据主导地位,客户包括[[台积电]]、[[三星]]、[[英特尔]]等主要芯片制造商。
返回
ASML
。
查看“︁ASML”︁的源代码
来自Ac-Wiki